一种烃源岩和膏盐盖层形成时间窗口和分布范围的计算方法和装置----中国科学院青藏高原研究所

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专利详细信息

专利名称：	一种烃源岩和膏盐盖层形成时间窗口和分布范围的计算方法和装置
专利类别：	发明专利
申请号：	CN202311145905.3
专利号：
申请日期：	2023-09-06
第一发明人：	颜茂都；方小敏；张健；于亮；徐万龙
专利授权日期：
专利证书号：
专利摘要：